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[Photolithography] Negative resist: Spin-coating, baking, exposure and development conditions: AZ nLof 2020 One of the most commonly used negative photoresists is AZ nLof 2020. Here, I make a note on spin-coating, baking, exposure and development conditions of the negative tone photoresist. Useful links:Photoresist informaiton: http://www.microchemicals.com/products/photoresists/az_nlof_2020.htm..

[Photolithography] Spin-coating, baking, exposure and development conditions: AZ-series One of the most commonly used photoresists is AZ 1500-series. Here, I make a note on spin-coating, baking, exposure and development conditions of AZ 1512 HS Photoresist. Useful links:Photoresist informaiton: http://www.microchemicals.com/products/photoresists/az_1512hs.html. Data sheet (pdf): http://www.micro..

[Photolithography] 실험방법, 주의사항 정리 제가 실험하는 곳을 기준으로 실험방법과 주의사항을 정리해보았습니다. 실험시설마다 구체적인 방법은 다를 수 있습니다. 광리쏘(Photolithography)에는 크게 3단계가 있습니다. 1. 스핀 코팅 + 베이킹 2. 노출 3. 현상 단계별로 알아봅시다. 1. 스핀 코팅 + 베이킹 1.a Spin coating 스핀 코팅을 위해서는 당연히 Spin-coater가 필요합니다. 제가 있는 곳에서는 EVG라는 스핀코터를 사용합니다. EVG101 (http://www.evgroup.com/) (These are some local rules which may vary by different institute.) 1.a.1 How to fill the sy..