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[Photolithography] Spin-coating, baking, exposure and development conditions: AZ-series One of the most commonly used photoresists is AZ 1500-series. Here, I make a note on spin-coating, baking, exposure and development conditions of AZ 1512 HS Photoresist. Useful links:Photoresist informaiton: http://www.microchemicals.com/products/photoresists/az_1512hs.html. Data sheet (pdf): http://www.micro..
연구자료
2016. 8. 8. 10:31